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發(fā)布企業(yè):深圳市凱睿晟科技有限公司時(shí)間:2021-9-24 17:21:00

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BYN4458_SP8K5-TB導(dǎo)讀

根據(jù)導(dǎo)電溝道的載流子能夠劃分為N溝道和P溝道。MOS管是一種單極性載流子參與導(dǎo)電的半導(dǎo)體器件。假定導(dǎo)電溝道的載流子是電子,則稱為N溝道;假定載流子是空穴,則稱為P溝道。

這個(gè)電流通路的電阻被稱為MOS管內(nèi)阻,也就是導(dǎo)通電阻。內(nèi)阻越小承受電流越大(因?yàn)榘l(fā)熱?。_@個(gè)內(nèi)阻大小基本決定了MOS管芯片能承受得多大導(dǎo)通電流(當(dāng)然和其它因素有關(guān),如熱阻)。

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FTD2017

但在結(jié)構(gòu)上,它們之間相差很大,為了更好天文解功率MOSFET的機(jī)理,首要來回想一下小功率場效應(yīng)管的機(jī)理。以下以N溝道增強(qiáng)型小功率MOSFET的結(jié)構(gòu)來說明MOS管的原理。 。功率mos管工作原理 功率MOS管是從小功率MOS管展開來的。

在多數(shù)情況下,這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的,即使兩端對(duì)調(diào)也不會(huì)影響器件的性能。G:gate 柵極;S:source 源極;D:drain 漏極。這樣的器件被認(rèn)為是對(duì)稱的。MOS管的source(源極)和drain(耗盡層)是可以對(duì)調(diào)的,他們都是在P型backgate中形成的N型區(qū)。一般是金屬(metal)—氧化物(oxide)—半導(dǎo)體(semiconductor)場效應(yīng)晶體管,或者稱是金屬—絕緣體(insulator)—半導(dǎo)體。

MOS管,是MOSFET的縮寫。MOSFET金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,簡稱金氧半場效晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。

MOS管規(guī)格書中有三個(gè)寄生電容參數(shù),分別是:輸入電容Ciss、輸出電容Coss、反向傳輸電容Crss。該三個(gè)電容參數(shù)具體到管子的本體中,分別代表什么?是如何形成的?。

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AP6901GSM-HF

為了抑止MOSFET的載流才華太小和導(dǎo)通電阻大的難題,在大功率MOSFET中一般選用兩種技能,一種是將數(shù)百萬個(gè)小功率MOSFET單胞并聯(lián)起來,前進(jìn)MOSFET的載流才華。別的一種技能就是對(duì)MOSFET的結(jié)構(gòu)間斷改進(jìn),選用一種筆直V型槽結(jié)構(gòu)。圖3是V型槽MOSFET結(jié)構(gòu)剖面圖。

N溝道增強(qiáng)型MOS管是把一塊低摻雜的P型半導(dǎo)體作為襯底,在襯底上面用分散的方法構(gòu)成兩各重?fù)诫s的N+區(qū),然后在P型半導(dǎo)體上生成很薄的一層二氧化硅絕緣層,然后在兩個(gè)重?fù)诫s的N+區(qū)上端用光刻的方法刻蝕掉二氧化硅層,暴露N+區(qū),較終在兩個(gè)N+區(qū)的外表以及它們之間的二氧化硅外表用蒸騰或者濺射的方法噴涂一層金屬膜,這三塊金屬膜構(gòu)成了MOS管的三個(gè)電極,分別稱為源極(S)、柵極(G)和漏極(D)。

NCE6802 NCE30H29D NCEB301Q NCEB301Q NCEB301G 。

MOSFET管是FET的一種(另一種是JFET),可以被制造成增強(qiáng)型或耗盡型,P溝道或N溝道共4種類型,但實(shí)際應(yīng)用的只有增強(qiáng)型的N溝道MOS管型號(hào)和增強(qiáng)型的P溝道MOS管型號(hào),所以通常提到NMOS,或者PMOS指的就是這兩種。

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NCE25TD120WT NCE25TD120VT NCE15TD120LT NCE25TD120LT NCE40TD135LT 。

NCE20ND06 NCE2008N NCE2312 NCE2312A NCE8205A 。

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